Objetivo de molibdeno

El objetivo de molibdeno, también conocido como objetivo de pulverización de molibdeno, es un objetivo metálico hecho de material de molibdeno de metal (MO). Es uno de los principales materiales utilizados para hacer películas delgadas. Se utiliza principalmente en el proceso de recubrimiento de pulverización en la tecnología de deposición de vapor físico (PVD). También es adecuado para todos los sistemas de recubrimiento plano y recubrimiento rotativo.

El molibdeno tiene un alto punto de fusión, alta conductividad, baja impedancia específica, buena resistencia a la corrosión y buen rendimiento ambiental, de modo que el objetivo de pulverización de molibdeno puede formar un recubrimiento de molibdeno en varios sustratos a través del proceso de pulverización de magnetrón. Este recubrimiento de molibdeno se usa ampliamente en componentes electrónicos y productos electrónicos.

Luoyang Rare Metal Research Material Co., LTD se especializa en la producción de diversos tipos de objetivos MO, incluidos objetivos planos y objetivos rotativos, que cubren objetivos de pulverización de molibdeno y objetivos anódicos de molibdeno para que coincidan con diferentes tipos de equipos de pulverización de magnetrón. Todos los productos serán personalizados de acuerdo con sus requisitos.

Los objetivos que producimos tienen alta pureza, bajo contenido de impureza, alta densidad, tamaño de grano fino y distribuido uniformemente, y el tamaño de grano promedio más pequeño, con excelente rendimiento. Al mismo tiempo, podemos llevar a cabo la producción en masa en poco tiempo, y el tiempo de entrega está garantizado.

1) Alta pureza:
La pureza del objetivo de Mo es un indicador clave de su rendimiento. En términos generales, la pureza nuestro objetivo de Mo puede alcanzar el 99.95% o incluso más. La alta pureza asegura la minimización de las impurezas durante el proceso de deposición de la película, mejorando así la calidad del producto final.

2) alta densidad:
La densidad cercana a la densidad teórica del molibdeno (10.22 g\/cm³) es un signo de objetivo de moly de alta calidad. Una mayor densidad indica que hay menos vacíos en el material y la estructura es compacta, lo cual es crucial para mejorar la vida útil y la estabilidad del material objetivo.

3) Alta conductividad térmica:
La conductividad térmica del molibdeno es de aproximadamente 138 w\/m · k. La alta conductividad térmica es muy importante para el control de la temperatura del objetivo durante el recubrimiento de alta velocidad, lo que ayuda a evitar el sobrecalentamiento y el daño estructural del objetivo.

4) Bajo coeficiente de expansión térmica:
El molibdeno tiene un bajo coeficiente de expansión térmica de aproximadamente 4.8 × 10^-6 \/ grado. Esta característica significa que el producto tiene una buena estabilidad dimensional bajo cambios de temperatura, lo que ayuda a mantener la consistencia y precisión del proceso de deposición de la película.

5) Alta dureza y fuerza:
El molibdeno tiene una dureza de Vickers de aproximadamente 2500 HV y tiene una alta resistencia mecánica. Esto permite que el producto resistir el impacto mecánico durante el recubrimiento de alta velocidad.

6) buena planitud y rugosidad de la superficie:
La planitud y la rugosidad de la superficie también son parámetros importantes para evaluar la calidad de los objetivos de MO. El buen tratamiento de superficie puede reducir la generación de partículas durante el uso del objetivo y mejorar la uniformidad y la calidad de la película depositada.

El material objetivo de molibdeno puede formar una película delgada en el sustrato. Se usa ampliamente en:

- Fabricación de semiconductores, componentes electrónicos e industria de microelectrónica, circuitos integrados, almacenamiento de información, almacenamiento láser, dispositivos de control electrónico.
- Glass conductivo, vidrio óptico, industria de vidrio recubierto (principalmente incluyendo vidrio arquitectónico, vidrio automotriz, vidrio óptico, etc.)
- Plata de iones y otras industrias.
- células solares fotovoltaicas solares de película delgada.
- Equipo de imágenes médicas.
- Pantallas de panel plano, pantallas de cristal líquido, pantallas táctiles.
- Luces automotrices, recubrimientos decorativos y recubrimientos de herramientas y moldes, etc.
-También se puede usar en materiales resistentes al desgaste, materiales de corrosión de alta temperatura, etc.

1) alta pureza
Elegimos polvo de molibdeno de alta pureza como materia prima; La pureza está por encima del 99.95%, y la introducción de elementos de impureza se controla estrictamente durante el proceso de preparación. Asegura que la película pulverizada tenga una buena actuación.

2) alta densidad
Elegimos la tecnología de formación y sinterización que puede lograr una densificación rápida, y la densidad relativa del objetivo de pulverización está por encima del 98%. , Para garantizar la baja porosidad del objetivo, el objetivo con mayor densidad puede reducir el chapoteo de las partículas de películas durante el proceso de recubrimiento, mejorando así la calidad de la película.

3) Tamaño de grano pequeño y uniforme
El objetivo de molibdeno que producimos tiene una distribución de microestructura más uniforme, puede formar una orientación cristalina específica y los granos son pequeños y uniformes. La tasa de pulverización del material objetivo con granos finos es más rápida que la de los granos gruesos, y el material objetivo con una menor diferencia en el tamaño de grano tiene una distribución de espesor más uniforme de la película depositada. El rendimiento de pulverización del objetivo MO es mejor.

4) una amplia gama de materiales objetivo para elegir
Hay muchos tipos de objetivos de pulverización de molibdeno que podemos proporcionarle. Según la forma, se pueden dividir en objetivos redondos de molibdeno, objetivos cuadrados, objetivos de barra y objetivos de tubo. Según la clasificación de material, se pueden dividir en objetivos de moli puro y objetivos de aleación de moli.

5) Un conjunto completo de equipos de producción
Luoyang Rare Metal Research Material Co., Ltd tiene un conjunto completo de equipos, como una gran presión isostática, grandes hornos de sinterización de protección de vacío y gas, grandes máquinas de fresado CNC y grandes molinillos CNC, así como procesos de producción maduros, que pueden producir masa varios tipos de productos.

6) Equipo de prueba completo
Podemos proporcionar un conjunto completo de equipos de pruebas de propiedad física, como densidad, dureza, rugosidad de la superficie, etc. Por lo tanto, cuando utilizan probadores de corriente de Eddy y equipos ultrasónicos, los posibles daños internos del producto, como los poros y las grietas, pueden verificarse estrictamente para garantizar la alta calidad del producto.

Los objetivos de molibdeno se producen por metalurgia en polvo.

Primero, el polvo de molibdeno se selecciona y se carga en el molde para presionar.

Después de presionar y formar, se sinteriza en un horno de inducción de frecuencia media o en un horno de sinterización de vacío, y luego se enrolla y mecanizado. Finalmente, se procesa en un material objetivo terminado que cumple con los requisitos de tamaño y superficie del cliente.

La metalurgia en polvo hace que los productos tengan alta densidad, buena uniformidad y un excelente rendimiento en la microestructura, y también tiene las características del ciclo de producción corto, pocos procesos, el bajo consumo de energía y la pequeña pérdida de materiales.

El objetivo de pulverización de molibdeno se usa principalmente para el revestimiento de pulverización de magnetrón, que es un nuevo método de deposición de vapor físico (PVD). Se agrega un campo magnético ortogonal y un campo eléctrico entre el objetivo pulverizado (cátodo) y el ánodo, y el gas inerte requerido (generalmente gas AR) se llena en la cámara de alta vacío. Bajo la acción del campo eléctrico, el gas AR se ioniza en iones y electrones positivos. Un cierto voltaje negativo de alto voltaje se aplica al objetivo. Los electrones emitidos desde el objetivo se ven afectados por el campo magnético y la probabilidad de ionización de que aumenta el gas de trabajo, formando un plasma de alta densidad cerca del cátodo. Los iones AR se aceleran para volar a la superficie objetivo bajo la acción de la fuerza Lorentz, bombardeando la superficie objetivo a una velocidad muy alta, de modo que los átomos chocados en el objetivo siguen el principio de conversión de impulso y vuelan al sustrato con mayor energía cinética para formar una película.

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